Отрасль применения

Кориолисовые расходомеры для микроэлектроники

Прецизионное дозирование в производстве микроэлектроники

Массовые расходомеры Mass-EXPERT для дозирования химических материалов в полупроводниковой промышленности — фоторезистов, растворителей, CMP-суспензий, кислот высокой чистоты и сверхчистой воды (UPW). Отсутствие подвижных частей исключает генерацию частиц, обеспечивая безупречную чистоту процесса.

Рекомендуемые конфигурации Запросить КП
Фоторезисты CMP-суспензии Кислоты высокой чистоты UPW Без генерации частиц Точность 0,1%
Типичные среды

Материалы для производства микроэлектроники

Кориолисовые расходомеры Mass-EXPERT обеспечивают прецизионное дозирование жидкостей и газов, используемых в полупроводниковых технологических процессах — от фотолитографии до химико-механической планаризации и очистки пластин.

Кислоты высокой чистоты

Серная кислота 96% (H₂SO₄), соляная кислота 37% (HCl), азотная кислота (HNO₃), фтороводородная кислота (HF), ортофосфорная кислота (H₃PO₄) — все в спецификации высокой чистоты (SEMI) для мокрых процессов травления и очистки пластин.

H₂SO₄ 96% HCl 37% HF HNO₃

Фоторезисты

Позитивные и негативные фоторезисты (i-line, KrF, ArF, EUV), антиотражающие покрытия (BARC, TARC), проявители и промывочные растворы. Точное дозирование объёмов от микролитров обеспечивает равномерность нанесения на пластину.

i-line KrF ArF EUV BARC TARC

CMP-суспензии

Абразивные суспензии на основе коллоидного кремнезёма (SiO₂), оксида церия (CeO₂), глинозёма (Al₂O₃) для химико-механической планаризации (ХМП). Устойчивость к абразивному износу и высокая точность поддержания расхода.

SiO₂ CeO₂ Al₂O₃

UPW и растворители

Сверхчистая вода (UPW, 18,2 МО·см), изопропанол (IPA), ацетон, N-метилпирролидон (NMP), пропиленгликольмонометиловый эфир (PGME), EBR-растворители для удаления фоторезиста.

UPW IPA NMP PGME
Специальные газы

Газообразные среды для полупроводниковых процессов

Помимо жидкостей, Mass-EXPERT применяется для дозирования специальных газов, используемых в CVD, PVD, травлении и других технологических этапах.

Инертные и защитные газы

Азот (N₂), аргон (Ar), гелий (He) — для создания инертной атмосферы, продувки линий, барботирования химических растворов и пневматического транспорта.

N₂ Ar He

Процессные газы

Тетрафторметан (CF₄), трифторид азота (NF₃), гексафторид вольфрама (WF₆), моносилан (SiH₄), аммиак (NH₃), закись азота (N₂O) и другие, используемые в CVD-осаждении и плазменном травлении.

CF₄ NF₃ SiH₄ NH₃ WF₆

Криогенные и сжатые газы

Сжиженные газы (LN₂, LAr) при низких температурах, а также сжатые газы высокого давления для процессов ионной имплантации и молекулярно-лучевой эпитаксии.

LN₂ LAr

Материалы трубок для полупроводниковой чистоты

Выбор материала измерительных трубок критичен для сохранения высокой чистоты технологических сред и предотвращения загрязнения пластин.

Хастеллой (C4/C276)
Высокая стойкость к кислотам и галогенам. Рекомендован для горячей H₂SO₄, HCl, фторсодержащих сред.
Тантал
Максимальная коррозионная стойкость к самым агрессивным средам. Подходит для HF, царской водки, горячих концентрированных кислот.
Нержавеющая сталь 316L
Базовый материал для UPW, растворителей и менее агрессивных сред. Электрополированная поверхность снижает риск загрязнения.
Преимущества

Почему Mass-EXPERT для полупроводников?

Кориолисовая технология прямого массового измерения — оптимальное решение для требований микроэлектронного производства

Отсутствие генерации частиц

В конструкции нет подвижных частей, уплотнений, застойных зон и вращающихся элементов. Нулевой риск загрязнения технологических сред частицами износа.

Точность до 0,1%

Прецизионное дозирование с погрешностью не более 0,1% обеспечивает воспроизводимость нанесения фоторезиста, CMP-суспензий и кислот при обработке каждой пластины.

Материалы высокой чистоты

Хастеллой и тантал — материалы, исключающие выщелачивание примесей при контакте с технологическими жидкостями.

Компактные малые DN

Сенсоры DN01–DN08 для сверхмалых расходов. Идеальны для дозирования дорогостоящих фоторезистов и фотохимикатов, минимизируя потери материала.

Независимость от вязкости

Прямое измерение массы не зависит от изменений вязкости и плотности среды. Стабильная точность при дозировании CMP-суспензий, меняющих вязкость с температурой.

Чистовая промывка (CIP/SIP)

Гладкая проточная часть без застойных зон обеспечивает эффективную CIP/SIP-мойку. Минимальное время замены продукта и исключение перекрёстного загрязнения.

Нулевая генерация частиц — ключевое преимущество в микроэлектронике

В полупроводниковом производстве каждая посторонняя частица может стать причиной брака микросхемы. Расходомеры Mass-EXPERT не имеют подвижных частей, трущихся уплотнений или подшипников — единственным движущимся элементом является сама среда, колеблющаяся в измерительных трубках. Это полностью исключает генерацию частиц износа. Оборудование проектируется с учётом требований чистых производств полупроводниковой отрасли.

Рекомендуемые конфигурации

Оптимальные решения для полупроводниковой промышленности

Проверенные комбинации сенсоров, материалов и опций для типовых задач микроэлектронного производства

Малые сенсоры DN01–DN08

Компактные сенсоры с минимальным внутренним объёмом для прецизионного дозирования микролитровых объёмов дорогостоящих химикатов.

  • Микрорасходы
  • Минимальный мёртвый объём — снижение потерь реагента
  • Идеальны для фоторезистов и фотохимикатов
  • Компактная конструкция для встраивания в оборудование

Хастеллой / Тантал

Коррозионностойкие материалы, обеспечивающие максимальную чистоту среды и устойчивость к агрессивным технологическим жидкостям.

  • Хастеллой C4/C276 — для кислот и галогенсодержащих сред
  • Тантал — для экстремально агрессивных сред (HF, царская водка)
  • Проектирование с учётом требований чистых производств

Трансмиттер ME100 или ME400

Компактные интеллектуальные трансмиттеры для встраивания в полупроводниковое технологическое оборудование: ME100 — с дисплеем и локальным управлением, ME400 — сверхкомпактный, без дисплея, с удалённой настройкой.

  • ME100 — LCD-дисплей и кнопки управления: настройка, просмотр данных и событий на месте
  • ME100 — аналоговый выход 4–20 мА с HART; исполнение Ex db ib IIC T6 Gb
  • ME400 — сверхкомпактный корпус из нержавеющей стали с быстросъёмным разъёмом, питание 24 В
  • ME400 — без дисплея: полностью управляется удалённо с ПО M-link (без взрывозащиты)
  • Modbus RTU (RS-485) и импульсный выход — в обоих исполнениях; автоматическая диагностика сенсора

Точность 0,1% для прецизионного дозирования

Высочайший класс точности для ответственных задач дозирования, где каждая капля реагента влияет на выход годных кристаллов.

  • Основная погрешность ±0,1% от измеряемого расхода
  • Повторяемость ±0,05%
  • Стабильность нулевой точки от 0,008 кг/ч
  • Динамический диапазон до 100:1

Рекомендация для дозирования фоторезистов

Для прецизионного дозирования фоторезистов на пластины выбирайте комбинацию: сенсор DN01–DN04 из Хастеллоя C276 + трансмиттер ME100 с Modbus RTU — или сверхкомпактный ME400 с удалённым управлением. Такая конфигурация обеспечивает точность 0,1%, нулевое загрязнение среды и минимальный мёртвый объём — экономию дорогостоящих фотохимикатов при каждой смене продукта.

Ключевые параметры

Технические возможности Mass-EXPERT для электроники

Массовый расход жидкостей: от 1,2 до 39 000 кг/ч (DN01–DN50)
Погрешность измерений: ±0,1% – ±0,2%
Диапазон измерения плотности: 650–2000 кг/м³
Температура среды: от –196 до +350 °C
Рабочее давление: до 96 МПа
Выходные сигналы: 4–20 мА HART, RS-485 Modbus
Степень защиты: IP66/IP67
FAQ

Частые вопросы

Ответы на вопросы, которые чаще всего задают по этому применению.

Колонок:

690 вопросов по 23 применениям — в центре вопросов

Смежные применения

Где ещё применяются расходомеры Mass-EXPERT

Готовы обсудить вашу задачу?

Подберём оптимальную конфигурацию Mass-EXPERT для вашего объекта.

Подобрать расходомер самостоятельно На главную продукта
Наверх